Automatic temperatus et humiditas imperium
Temperatura et humiditas cubiculi mundi maxime determinantur secundum processum requisita, sed sub conditione, ut processus requisita occurrat, humano solatio consideranda.Cum munditia aeris aucta requisita, inclinatio est, quod processus plus ac durius in caliditate et humiditate requisita habet.
Cum accuratio machining pulchrior et subtilior est, requisita pro temperatura fluctuationis range minores minoresque sunt.Exempli gratia, in lithographia expositionis processus magnae magnitudinis integralis in ambitu productionis, differentia inter expansionem coefficiens vitri et lagani pii, sicut materia diaphragmatis requiritur ut minor et minor sit.laganum Pii cum diametro 100µm dilatationem linearem 0.24µm faciet cum temperatura per 1 gradum oritur.Ideo necesse est habere constantem temperaturam ±0.1 graduum.Eodem tempore, humiditas valor plerumque requiritur humilis, quia postquam homo sudat, productum polluetur, praesertim Nam officinae semiconductores, quae sodium timent, huiusmodi officinae mundae 25 gradus non debent excedere.
Nimia humiditas plus causat difficultates.Cum humiditas relativa excedit 55%, condensatio fiet in muro aquae frigidae fistulae.Si fiat in subtilitate vel in circuitu, varia accidentia causabit.Facile est rubiginem cum humiditas relativa est 50%.Praeterea, cum humiditas nimis alta fuerit, pulvis in superficie lagani Pii erit chemica moleculis aquae in aere ad superficiem, quae removere difficile est.Quo altior humiditas relativa, eo difficilior est adhaesionem tollere, at cum humiditas relativa minor quam 30% est, particulae etiam facile in superficie componuntur propter vim vis electrostaticae et magnum numerum semiconductoris. cogitationes prona naufragii.Optima temperatus range pro lagano silicon-is productio 35~45% est.
